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idecoptics 復享
致力于為半導體先進制程提供集成測控產(chǎn)品和端到端一體化服務
8／公司介紹
上海復享光學股份有限公司成立于2011年，是一家服務于微納制造和基礎(chǔ)研究等領(lǐng)域的光學計量檢測儀器設備公司，是國內(nèi)光譜技術(shù)領(lǐng)軍企業(yè)，入選第五批國家級專精特新“小巨人"企業(yè)，被上海市科學技術(shù)委員會授予“上海微納制程智能檢測工程中心"建設單位。近年來，公司憑借自主研發(fā)的深度光譜技術(shù)平臺的深厚積累，瞄準具有較大市場規(guī)模的卡脖子關(guān)鍵技術(shù)點重點突破，為半導體前道工藝的光刻、刻蝕、鍍膜、CMP、量檢測等領(lǐng)域的頭部企業(yè)提供核心光學子系統(tǒng)和深度算法，并配合客戶實現(xiàn)國產(chǎn)替代需求，助力推動微納制造發(fā)展。
O/半導體業(yè)務概覽
復享光學面向先進制程、先進封裝與先進材料等產(chǎn)業(yè)方向，融合多維多模態(tài)感知技術(shù)，發(fā)展實時與原位的測控驅(qū)執(zhí)技術(shù)，為半導體裝備提供精準可靠的集成式測控解決方案。
五大工藝過程
刻蝕與清洗過程組 離子注入過程組 圖形化過程組 沉積過程組 減薄與CMP過程組 + 量測與檢測
InView-OES
常規(guī)膜層刻蝕：Poly、SiNx、OX、PR、Metal等
VCSELmesa刻蝕、超薄膜層刻蝕、低開口率刻蝕、高深寬比刻蝕、IBE刻蝕等極弱OES信號刻蝕場景下的終點抓取
干法去膠、PECVD腔室清潔等工藝控制場景
| InView-OES-ND | InView-OES-SM | |
| 类别 | High Performance | General Purpose |
| 波段 | 200-980 nm | 200-850 nm |
| 信噪比 | 1000:1 | 350:1 |
| 动态范围 | 25000:1 | 5500:1 |
| 分辨率 | 1.68nm@10 μm狭缝 | 2.5nm@50 μm狭缝 |
| 通讯方式 | 网口 | 网口 |
配備InView-IEP.BOX和ideaEPD工業(yè)軟件
可定制高效率光路
體積緊湊
可定制模型算法
< 1 % 原位膜厚監(jiān)測精度
良應用領(lǐng)域
功率器件：溝槽型SiCMOSFETtrench刻蝕
存儲器件：3DNANDstaircase刻蝕
邏輯器件：柵極刻蝕
其他復雜patternwafer刻蝕場景
薄膜沉積原位膜厚監(jiān)控
MetronFilm-EX(全波段款)
反射膜厚測量儀
| 技术参数 | 参数指标 |
| 波长范围 | 190~1100nm |
| 光源 | 外置氘灯+卤素灯 |
| 厚度测量范围* | 1nm~260μm |
| 测量n&k最小厚度* | 50nm |
| 准确度*： | 1nm@≤500nm，或0.2%@≥500nm |
| 精度1 | 0.02nm |
| 稳定性² | 0.05nm |
| 光斑大小 | 1.5mm |
| 样品尺寸 | 直径从1mm到300mm或更大 |
| 测量速度 | 单层小于1秒 |
超寬測量范圍1nm - 2 6 0 \mu { m } , 從超薄膜至厚膜達到超廣覆蓋。\*
·溯源NIST,測量準確性有保證，膜厚在 5 0 0 \mathsf { n m } 以下準確度達到1nm，膜厚在500nm以上準確度達到 1 0 . 2 % _ { \tt c } \*
著眼特色工藝，助力先進制程
適用多種先進工藝，可測單/多層膜的厚度和n&k。二元復合多層膜實測可多達232層(見文獻1)?？蓱糜谌?D NAND、A R + H C 復合光學涂層、PERC薄膜等的復雜膜系測量。
快速測量，單層膜測量1s內(nèi)完成;多層膜檢測耗時數(shù)量級下降。
光學測量；非接觸、非破壞測量
節(jié)省空間、配置靈活、支持定制化
\*參數(shù)均取決于材料，詳見技術(shù)規(guī)格 1 Fanetal.Light: Advanced Manufacturing(2021)2:27. https://doi.org/10.37188/lam.2021.027
2nm極薄膜測量 SiO2 on Si (2nm)
| Max | 2.85nm |
| Min | 2.62 nm |
| Range | 0.22nm (8%) |
| Average | 2.73nm |
| Std | 0.07nm |
MetronFilm-EX對低至2nm超薄膜實現(xiàn)精準測量。
100次測量結(jié)果均達到標注的準確度標準（1nm或 0 . 2 % { \omega } 5 0 0 \mathsf { n m } 以上)
光刻膠厚度及n&k測量 光刻膠950-PMMA
MetronME-XT-300
全自動穆勒矩陣橢偏儀
·先進的雙旋轉(zhuǎn)補償器測量技術(shù)，單次測量可獲取16組全穆勒矩陣光譜;可實現(xiàn)MullerMatrix、橢偏參數(shù)Psi&Delta (N&C&S)、反射率R、透射率T、偏振反射率Rp/Rs、偏振透射率Tp/Ts、偏振度DOP光譜的高精度測量；
覆蓋寬測量波段，典型測量波段為245\~1000nm,支持向深紫外和紅外波段擴展;測量靈敏度極高，可實現(xiàn)單原子層級膜厚測量準度；配備自動位移臺，支持兼容4\~12寸晶圓Mapping功能,掃描路徑參數(shù)化與自定義設置;支持自動對焦模塊；高速光譜采集技術(shù)，可實現(xiàn)毫秒級光譜測量與分析;·支持擴展毫米級大光斑測量和微米級微光斑測量兩種模式;·可視化樣品對準，便于進行微區(qū)測量；·軟件具備強大的數(shù)據(jù)分析能力，材料庫包括上百種典型材料光學常數(shù)，人機交互方便快捷。
應用領(lǐng)域
idecoptics 復享
讓制程更可控
上海復享光學股份有限公司ideaoptics Inc.
Tel: 400-001-5685
Web:www.ideaoptics.com
Sales Email:400@ideaoptics.cn
Add:上海市浦東新區(qū)金滬路358弄3號樓
